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產品簡介
氧化鋁催化劑膠體磨是針對催化劑制備的專用設備，通過定轉子高速剪切與研磨作用，將氧化鋁物料細化至微米 - 納米級，打破團聚、提升分散均勻性。設備研磨精度高、運行穩定，符合催化材料制備標準，適配化工催化等領域，為氧化鋁催化劑的活性提升與性能優化提供可靠技術保障。
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單組分沉淀法：沉淀劑與一種待沉淀溶液作用制備一組分沉淀物。如氧化鋁載體的制備反應如下：
Al3+ + OH-→ Al2O3•nH2O↓ AlO2- + H3O+ → Al2O3•nH2O↓
共沉淀法：兩個以上的組分同時沉淀。如低壓合成甲醇用的三組分催化劑CuO-ZnO-Al2O3的制備：將這三種待沉淀離子的硝酸鹽混合液與Na2CO3并流加入沉淀槽，在強烈攪拌下，在恒定的溫度和近中性的條件下，形成三組分沉淀。再經過后續處理得三組分催化劑。
均勻沉淀法：先將待沉淀的溶液與沉淀劑母體充分混合為十分均勻的體系，再改變條件，如調節溫度和時間，逐漸提高 PH，體系中逐漸生成沉淀劑，沉淀緩慢進行，制得顆粒均勻、比較純凈的沉淀物。如Al(OH)3的制備。在鋁鹽溶液中加入尿素溶化混勻，再加熱到90~100℃，此時溶液中各處的尿素同時水解，釋放出OH-，其反應為：
(NH4)CO3+ 3H2O→2NH4+ + 2OH- + CO2 Al3++ OH- →Al(OH)3↓
超均勻沉淀法：先制成鹽溶液的懸浮層（2~3層），再立即瞬間混合成過飽和的均勻溶液，從而得到超均勻的沉淀物。如硅酸鎳催化劑的制備，順次將硅酸鈉溶液（密度0.0013 ）、20%的硝酸鈉溶液（密度0.0012 ）、含硝酸鎳和硝酸的溶液(密度0.0011 )在容器中形成三層→立即攪拌形成過飽和溶液→放置數分鐘或數小時，形成均勻的水凝膠或膠凍→自母液分出→水洗、干燥、焙燒→催化劑先驅物。
根據一些行業的特殊要求，SID 在GM2000系列膠體磨的基礎上又開發了一款GMS2000高速膠體磨，轉子的線速度可以達到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒徑分布更小。
超高速膠體磨的細化作用一般來說要強于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于高粘度的場合。在固態物質較多時也常常使用膠體磨進行細化。
GMS2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
三級錯齒結構的研磨轉子，配合精密的定子腔。此款高速膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,zui小的轉速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。
氧化鋁催化劑膠體磨設備選型表：
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。 | |||||
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