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產品簡介
鹽酸林ke霉素注射液膠體磨是醫藥領域專用濕法粉碎設備，適配其混懸液制備需求。通過高速旋轉的定轉子產生剪切、碾磨力，將物料粒徑細化至微小尺寸且分布均勻，提升藥液穩定性與藥效發揮。設備符合藥用標準，易清潔，可減少殘留，保障注射劑生產安全與合規。
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是由鹽酸、依地酸二鈉、新鮮注射用水組成；其中每1000ml所述鹽酸注射液含有300g鹽酸、1g依地酸二鈉、3g炭，其余都是新鮮注射用水。生產工藝包括以下步驟：(1)將依地酸二鈉加入到30～40℃的注射用水溶解后加入鹽酸，攪拌使其wan全溶解；(2)用2.5mol/L氫氧化鈉調節pH值至4.5～5.0；(3)加入炭，攪拌均勻后靜置20分鐘。經鈦棒過濾器、0.45μm、0.22μm筒式過濾器過濾。(4)將灌封后的中間產品于滅菌柜中，用流通蒸汽100℃，滅菌30分鐘。（4）為了更好的細化注射液的物料粒徑，一般建議采用膠體磨進行細化處理，這樣有效地解決了長期困擾該產品的混濁、結晶、乳光、不溶顆粒增多，甚至沉淀等問題，有利于大批量生產，便于貯存和市場銷售。
工藝要點在于使用的膠體磨的研磨性能，普通膠體磨轉速3000rpm，研磨出來的懸浮液顆粒較粗，靜置一段時間容易產生絮凝，影響藥效和使用，極大限制了曲松鈉注射液的推廣，SID高剪切膠體磨GM2000系列轉速高達9000rpm，是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。GM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。 經過GM2000膠體磨研磨后的混懸液固體顆粒粒徑80%小于10UM，分布范圍極窄。
二、膠體磨頭和間距：
膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實現多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續粉液混合模塊。
間距可調，可實現1-10微米小粒徑材料加工
國內膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復性差
三、機械密封：
膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時不停運轉
國內膠體磨，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
四、清洗：
膠體磨，立式，皮帶驅動，易于維護，可有效保護馬達及齒輪箱，防止損壞,符合流體流動原理，具有CIP/SIP在線清洗，在線殺菌功能，無需拆卸，機器設計無si角，立式結構符合流體原理，清洗更簡便
國內膠體磨，臥式或立式（馬達一體式），軸承部分受力較大，易于損壞，維護保養復雜，
通常情況，需要拆卸機器進行清洗
鹽酸林ke霉素注射液膠體磨設備參數表：
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。 | |||||
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