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產品簡介
超細粉體膠體磨，該設備專為超細粉體濕法研磨設計，采用錐形定轉子結構，通過超 15000rpm 高速相對運動產生強剪切、研磨力。能將粉體細化至微米甚至納米級，粒徑均勻，適配高粘物料。全密閉運行防污染，可連續生產，廣泛用于食品、醫藥、化工等領域的超細粉體加工。
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超細粉體的分散是基礎研究領域和工業技術部門普遍遇到的課題，其應用日益廣泛，如化工、醫藥、涂料、材料、食品等。分散技術不僅是提高產品質量和性能及提高工藝效率不ke缺少，而且是十分重要的技術手段。
但是由于超細粉體粒度小，極易產生自發凝并，表現出強烈的聚團特性，不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體，聚團的結果導致超細粉體材料性能的嚴重劣化。另一方面，在復合材料的制備過程中，由于超細粉體的這種強烈團聚特性和它與復合基體材料的極性差異，超細粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質復合材料，是復合材料的性能難以達到人們預期的效果。
所以為了解決這一問題，各種類型的分散設備應運而生，粉體的分散、混合與均化在粉體技術中有三個目的。其一是使團聚粉體的碎解和分散，盡力使團聚粉體達到單粉體分散；其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產的產品的成分或粒度不均勻，而在使用時需要性能均一的粉體材料，為了消除各部分性能上的差異，需要對粉體材料進行分散、混合與均化處理；其三是，有些粉體材料需要進行改性處理，為了保證改性處理的均一性，也需要進行分散、混合與均化處理。
膠體磨GM2000系列特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外，GM在摩擦狀態下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉使溶液出現渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。GM2000整機采用幾何機構的研磨定轉子，表面處理和優質材料，可以滿足不同行業的多種需求。
高剪切膠體磨運行原理：
高剪切膠體磨在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 區，在十分狹窄的工作過道內由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區進行研磨破碎。精磨區分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經過三個精磨區的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質、細化的目的。液料的*小細度可達0.5um。
超細粉體膠體磨設備參數表：
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。 | |||||
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