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產品簡介
納米粉體高剪切研磨分散機，該設備專為破解納米粉體強團聚難題設計，集成高剪切分散與研磨功能。通過超 18000rpm 高速轉定子產生強剪切力，配合研磨介質撞擊，高效破碎團聚體并細化至納米級。可精準控粒徑、適配多物料，保障分散均勻穩定，助力新能源、醫藥等領域實現粉體材料高性能應用。
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納米粉體的分散是基礎研究領域和工業技術部門普遍遇到的課題，其應用日益廣泛，如化工、醫藥、涂料、材料、食品等。分散技術不僅是提高產品質量和性能及提高工藝效率不ke缺少，而且是十分重要的技術手段。
但是由于納米粉體粒度小，極易產生自發凝并，表現出強烈的聚團特性，不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體，聚團的結果導致納米粉體材料性能的嚴重劣化。另一方面，在復合材料的制備過程中，由于納米粉體的這種強烈團聚特性和它與復合基體材料的極性差異，納米粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質復合材料，是復合材料的性能難以達到人們預期的效果。
所以為了解決這一問題，各種類型的分散設備應運而生，粉體的分散、混合與均化在粉體技術中有三個目的。其一是使團聚粉體的碎解和分散，盡力使團聚粉體達到單粉體分散；其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產的產品的成分或粒度不均勻，而在使用時需要性能均一的粉體材料，為了消除各部分性能上的差異，需要對粉體材料進行分散、混合與均化處理；其三是，有些粉體材料需要進行改性處理，為了保證改性處理的均一性，也需要進行分散、混合與均化處理。
目前對于納米粉體的分散，一般采用以下幾種設備：
一、超聲分散機，超聲方式分散，對于小批量的物料還行，但無法放大生產。
二、機械攪拌分散機，這種在工業化分散中比較常見，但是由于自身的結構，轉速低，分散有死角，導致*終分散效果差，并且分散的效率很低。
三、混合分散機，這種分散機適合高粘度的物料的分散，電機功率大，但是也存在和機械攪拌分散機一樣的問題，分散效率低，效果差。
隨著納米粉體分散的進一步發展，SID研發出的分散設備-研磨分散機。結構為膠體磨頭+分散頭定轉子，先研磨打開團聚體，在瞬時通過分散工作組進行分散，分散效率快，分散效果好。
SID研磨分散機在納米粉體的分散中有著突出的應用和優勢，如石墨烯、碳納米管、二氧化硅、納米樹脂、納米涂料、醫藥納米混懸液等都有著成功的經驗和案例。
SID研磨分散機的研發初衷就是為了解決納米物料分散，解決粉體分散到液體中，二次團聚的問題。GMD2000系列研磨分散設備是SID公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三層高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三層變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
納米粉體高剪切研磨分散機設備參數表：
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。 | |||||
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