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產品簡介
高分子復合型陶瓷漿料研磨分散機，是處理該類漿料的專用設備，通過研磨轉子與定子的高速相對運動，產生剪切、研磨力，破除漿料團聚顆粒，同時高效分散高分子助劑與陶瓷粉體。具有研磨細度高、分散均勻性好的優勢，能提升漿料穩定性與后續成型性能，廣泛用于電子陶瓷、功能陶瓷等領域的漿料制備環節。
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專用設備有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。
目前我國墻地磚生產通常采用濕法工藝，即陶瓷原料先球磨成泥漿，再噴霧干燥成粉料，這個過程所消耗的能量約占生產總能耗的一半，因此，提高原料細磨效率和降低噴霧干燥塔中泥漿含水率對陶瓷廠的節能降耗和生產效率的提高有著重要的現實意義。陶瓷原料的球磨是一個高能耗、低效率的工藝過程，通過調整球磨介質、球磨機內襯和料球水比例等操作可提高球磨效率，但其效果有限，且增加磨材的費用。
陶瓷隔膜的原料一般為氧化鋁、二氧化硅、凹凸棒等，將超細氧化鋁粉體分散到液體（水或者溶劑）中，形成陶瓷隔膜漿料，然后采用SID研磨分散機進行研磨分散，解決團聚問題。相對于傳統設備，效率更高，效果更好。砂磨機一般細度沒有問題，但難以分散；高速分散機或雙行星攪拌機分散效果還可以，但細度不夠，并且效率較低。而SID研磨分散機合理的解決了這些問題，成為陶瓷隔膜漿料專用設備。
zui xin研發的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。是將SID膠體磨進行進一步的改良，在原來GM2000系列研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。在膠體磨的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） SID研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前國產設備轉速的4-5倍。
研磨分散機的優勢：
更穩定 采用優化設計理念，將先進的技術與創新的思維有效融合，并體現在具體的設備結構設計中，為設備穩定運行提供了保證.
新結構 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供chao強切割力，纖維濕法研磨破碎可達400目.
更可靠 采用整體式機械密封，zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題，安裝與更換方便快捷.
新技術 采用國際xian進的受控切割技術，將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內，滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
高分子復合型陶瓷漿料研磨分散機 GMD2000型號參數表：
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。 | |||||
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