lwc@sgnprocess.com
lwc@sgnprocess.com
產品中心
PRODUCTS CNTER
產品簡介
納米二氧化硅分散液高速分散機，以高速剪切力為核心，通過定轉子精密配合，快速打破分散液中納米顆粒團聚?？删珳士厮?，提升分散均勻度與穩定性，適配涂料、電子等領域，助力高效生產。
相關文章
ARTICLES納米二氧化硅分散液高速分散機
分散機采用德國博格曼雙端面機械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時連續運行。而普通乳化機很難做到連續長時間的運行，并且普通乳化機不能承受高轉速的運行
納米二氧化硅分散液，半透明液體，主要用于涂料、耐火材料、紡織工業等，具有耐水、耐火、耐洗刷、耐污性能。納米二氧化硅分散到液體之后，依據不同的分散體系，其外觀從白色乳狀到無色透明。
納米二氧化硅分散到液體之后，依據不同的分散體系，其外觀從白色乳狀到無色透明。從檢測上來看D90<100納米以下的體系，在外觀上都呈現視覺透明的狀態。納米的分散是一個世界性的技術難題?？上驳氖悄壳俺霈F了某些技術，使用某些納米顆?？梢越馍⒌絾畏稚⒌臓顟B。其中之一就有納米二氧化硅。
納米材料的分散 目前，國內產品質量較好的企業使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散，能基本滿足用戶的需要。由于我們行業的特點，有相當多的中小企業分散設備十分落后，分散時根本形成不了剪切力，只是一種攪拌，氣相二氧化硅在樹脂中根本形成不了網狀結構，從而無法發揮材料的性能。造成這種情況的主要原因① 尚未對分散的作用有正確的認識．許多生產商并未意識到分散的重要性；② 不知道對***終產品的品質如何評價，
GMSD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：
1.研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
5.循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）
線速度的計算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60
所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
納米二氧化硅分散液高速分散機設備型號參數表：
標準流量 | 輸出轉速 | 標準線速度 | 馬達功率 | |||
L/H | rpm | m/s | KW | |||
GRS2000/4 | 300 | 14000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
GRS2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
GRS2000/10 | 3000 | 7500 | 44 | 22 | DN50 | DN50 |
GRS2000/20 | 20000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
GRS2000/30 | 40000 | 2850 | 44 | 75 | DN150 | DN125 |
GRS2000/50 | 60000 | 2000 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
快速導航：
產品中心：
公司地址上海市嘉定區朱戴路900號
當前位置：
上一個：
返回列表
